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抛光一般分为粗抛和精抛:粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有最大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;
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水热合成反应釜(压力溶弹)
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